產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
用途概述
ZDM系列真空鍍膜機化學(xué)名叫六甲基二硅胺烷(別名六甲基二硅氮烷),,真空鍍膜機又稱HMDS基片預(yù)處理系統(tǒng),,喆圖真空鍍膜機對箱體內(nèi)預(yù)處理過程的工作溫度、工作壓力,、處理時間,、處理時保持時間等參數(shù)的控制,,可以在硅片、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝,。降低了光刻膠的用量,,所有工藝都在密閉的環(huán)境中進(jìn)行,沒有HMDS揮發(fā),,提高了安全性,。主要適用于硅片、砷化鎵,、陶瓷,、不銹鋼、鈮酸鋰,、玻璃、藍(lán)寶石,、晶圓等材料,,為基片在涂膠前改善表面活性,增加光刻膠與基底的粘附力的設(shè)備,,也可用于晶片其它工藝的清洗,,尤其在芯片研發(fā)和生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用更加普及。
產(chǎn)品特點
ZDM系列真空鍍膜機
v 采用PLC工控自動化系統(tǒng),,人機界面采用觸摸屏,,可靠性高,操作智能方便,;
v PLC控制系統(tǒng)具有自動控溫,、任意定時、超溫報警等,彩色觸摸屏顯示,控溫準(zhǔn)確可靠,;
v 智能化觸摸屏控制系統(tǒng),,可根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度,、真空度及每一程序時間,;
v 采用鋼化玻璃觀察窗,監(jiān)測方便,,一體成型的硅橡膠門封,,確保箱內(nèi)密封性好;
v 外殼和加熱管均采用不銹鋼材質(zhì),,內(nèi)膽不銹鋼,,無易燃易爆裝置,無發(fā)塵材料,;
v 以蒸汽的形式涂布到晶片表面,,液態(tài)涂布均勻,,可一次處理4盒以上的晶片,節(jié)省藥液,。
v 去水烘烤和增粘(疏水)處理一機完成無需轉(zhuǎn)移,,有效規(guī)避HMDS泄露的風(fēng)險;
v HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計,,使真空箱密封性好,,確保HMDS氣體不外漏;
v 多余的HMDS蒸汽(尾氣)由真空泵抽出,,排放到專用廢氣收集管道,,確保安全以及環(huán)保。
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性
將HMDS涂到晶片表面后,,經(jīng)真空鍍膜機加溫后可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物,,
它可將硅片表面由親水變?yōu)槭杷鹬詈献饔?,可更好與光刻膠結(jié)合,,保證涂膠工藝不影
響光刻效果和顯影。
HMDS本身是表面改性,,不會涂在圓片表面,,HMDS上面涂膠不影響HMDS的處理效果。
HMDS處理后需要冷卻后涂膠,,建議4小時內(nèi)完成涂膠,。
HMDS真空鍍膜機預(yù)處理程序
HMDS(六甲基二硅胺)是黃光區(qū)最毒的東西,真空鍍膜機預(yù)處理程序為:打開真空泵抽真空,,待腔內(nèi)真空度達(dá)到某一高真空度后,,開始充入氮氣,充到一定低真空度后,,再次進(jìn)行抽真空,、充入氮氣的過程,到達(dá)設(shè)定的充入氮氣次數(shù)后,,開始保持一段時間,,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分,。然后再次開始抽真空,,充入通過氮氣的HMDS氣體,在到達(dá)設(shè)定時間后,,停止充入HMDS藥液,,進(jìn)入保持階段,使硅片充分與HMDS反應(yīng),。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時間后,,再次開始抽真空,。
充入氮氣,完成整個作業(yè)過程,。
技術(shù)參數(shù):
型號 | ZDM-90V | ZDM-125V | ZDM-215V |
電源電壓 | AC 220V 50Hz | ||
控制系統(tǒng) | PLC智能控制 | ||
儀表控制 | 彩色觸摸屏 | ||
控溫范圍 | RT+10-200℃ | ||
溫度分辨率 | 0.1℃ | ||
溫度波動度 | ±0.1 | ||
真空度 | ≤133pa | ||
內(nèi)膽尺寸 | 450*450*450 | 500*550*500 | 550*550*650 |
容積 | 90L | 125L | 210L |
載物托架 | 2層 | 3層 | 3層 |